第十四届“PBIID2017”等离子体注入与沉积国际学术会议于2017年10月17-20日在中国上海举行，会议由中科院上海硅酸盐所和微系统与信息技术研究所联合承办。大会吸引了美国、德国、澳大利亚等世界各国近200位专家学者。会议主席为刘宣勇教授和狄增峰教授，特别邀请了德国S.Mandl教授和周克崧院士做了大会报告，并邀请了国际著名专家学者做了十场特邀报告。会议收到近200篇专题论文，汇集了近年来国际在等离子体表面改性领域的最新研究成果，代表了等离子体离子注入与沉积的研究热点和发展方向。

我实验室先进涂层技术课题组有4名师生参加，其中田修波教授做了《Pulsed High-density Plasma Based Ion Implantation and Deposition》邀请报告，并主持了其中的分会场；巩春志教师做了《Mechanical and tribological properties of TiN/CrN composite films deposited by Multi-pulse HIPIMS》口头报告，新型的等离子体放电形式引起了澳大利亚M.Bilek教授的极大关注，在会场上详细探讨了其中的物理机制，并确定了进一步合作研究的意向；博士生孔营同学的学术论文受到PBIID2017组委会、与会同行学者和国内外专家的一致好评，荣获最佳Poster奖，其论文题目是《Toughness modulation of CrN/CrCN multilayered coatings for application in wood processing》；博士生胡健同学也做了《Microstructure improvement of Cr-C-N coatings by an external electromagnetically coil》Poster展示。田修波课题组师生在本次会议上所报告的研究成果，提出了等离子体放电的最新模式，阐述了多脉冲大电流条件下的等离子体控制机理，解决了高功率脉冲磁控溅射的低沉积速率难题，受到参会学者的广泛关注和研讨。

等离子体离子注入与沉积可用于难钎焊材料的钎焊、表面强化耐磨、耐腐蚀、抗氧化等多个领域。相关的技术和设备已经输出清华、北大、北航等高等学校以及相关企业，表明实验室在相关领域拥有一席之地。（巩春志）