田修波，Keynote speake于2009年9月参加“第十届等离子体离子注入与沉积国际研讨会”

发布人：系统管理员  发布时间：2012-01-12   浏览次数:171

田修波，Keynote speake于2009年9月参加在巴西圣保罗举办的“第十届等离子体离子注入与沉积国际研讨会”，并作《DLC Deposition in Tube Using Hollow-cathode Discharge Plasma Ion Implantation》报告。