田修波课题组师生参加PBIID2017国际学术会议并受到广泛关注
第十四届“PBIID2017”等离子体注入与沉积国际学术会议于2017年10月17-20日在中国上海举行,会议由中科院上海硅酸盐所和微系统与信息技术研究所联合承办。大会吸引了美国、德国、澳大利亚等世界各国近200位专家学者。会议主席为刘宣勇教授和狄增峰教授,特别邀请了德国S.Mandl教授和周克崧院士做了大会报告,并邀请了国际著名专家学者做了十场特邀报告。会议收到近200篇专题论文,汇集了近年来国际在等离子体表面改性领域的最新研究成果,代表了等离子体离子注入与沉积的研究热点和发展方向。我实验室先进涂层技术课题组有4名师生参加,其中田修波教授做了《PulsedHigh-densityPlasmaBasedIonImplantationandDeposition》邀请报告,并主持了其中的分会场;巩春志教师做了《MechanicalandtribologicalpropertiesofTiN/CrNcompositefilmsdepositedbyMulti-pulseHIPIMS》口头报告,新型的等离子体放电形式引起了澳大利亚M.Bilek教授的极大关注,在会场上详细探讨了其中的物理机制,
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