多功能离子镀膜机

发布人：系统管理员  发布时间：2012-01-19   浏览次数:515

名称/型号 多功能离子镀膜机（自制） 设备特点 自制 技术指标 注入电压:50KV； 改性层厚度:0.01µm～20µm； 阴极弧电流:50～200A； 磁控溅射:5000W 应用方向 用于离子注入,阴极弧沉积,高离化率磁控溅射.可以在半导体、绝缘材料及金属零部件表面进行注入或沉积,获得功能表面处理.特别适合于复杂形状零部件的表面处理.