多功能离子镀膜机

2012年01月19日 浏览次数：1082

 

名称/型号多功能离子镀膜机（自制）
设备特点自制
技术指标注入电压:50KV；
改性层厚度:0.01µm～20µm；
阴极弧电流:50～200A；
磁控溅射:5000W
应用方向用于离子注入,阴极弧沉积,高离化率磁控溅射.可以在半导体、绝缘材料及金属零部件表面进行注入或沉积,获得功能表面处理.特别适合于复杂形状零部件的表面处理.

 

通知公告