名称/型号：多功能离子镀膜机（自制） 设备特点：自制 技术指标：注入电压:50KV；改性层厚度:0.01µm～20µm；阴极弧电流:50～200A；磁控溅射:5000W 应用方向：用于离子注入,阴极弧沉积,高离化率磁控溅射.可以在半导体、绝缘材料及金属零部件表面进行注入或沉积,获得功能表面处理.特别适合于复杂形状零部件的表面处理。
