由哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室和中国农业机械化科学研究院共同主办的第四届高离化磁控多弧技术研讨会暨PVD企校合作高层论坛于2016年12月11-13日在哈尔滨举行。哈尔滨工业大学田修波教授和中国农机院汪瑞军教授担任会议主席。

会议涉及“高密度等离子体是真空镀膜的未来”、“高端PVD企校深度交流、合力共赢”两个大主题，设有6个大会特邀报告、13个分会报告和2场校企高层论坛。全国从事真空镀膜技术的高校专家和国内外企业高层等50多人参加了本次会议。清华大学邵天敏教授、宁波材料所的汪爱英教授等多名教授以及深圳三海的战总、广州今泰梁总，德国PVT路总、重庆新恒基的赵总、沈阳科仪的赵部长等十几位企业老总。涉及到国外许多PVD大公司的先进设备，如Balzers，Hauzer，PVT，Nachi，SWRI，Gencoa等。会议主席田修波教授介绍了本次会议的组织筹备情况、材料学院副院长何鹏教授代表主办单位发表讲话，期望中国真空镀膜的理论研究和工程应用以及企校合作不断取得新进展。

报告主题鲜明，主要讨论了高密度等离子体在真空镀膜中的应用，包括空心阴极、磁场增强、电场增强、高电流增强等一系列方法。大家一致认为高密度等离子体是真空等离子体镀膜的未来。邵天敏教授、汪爱英教授分别作了题为“基于膜基性能匹配的薄膜设计”，“类金刚石薄膜的关键装备与应用技术研究”的邀请报告。先进焊接与连接国家重点实验室巩春志讲师也做了题为“高电流脉冲放电及PVD应用”的特邀报告，并主持了2个分会报告。辽宁科大周艳文教授和长春工大的吴化教授分别就灯丝增强放电和空心阴极增强放电作了邀请报告。值得一提的是英国Gencoa公司（黄汉乐邀请报告）研究了非常多的新型工艺方法，其创新思维和实际应用效果令人震撼。

针对目前PVD中小型企业研发力量薄弱而高校院所拥有很多技术却难以推广的问题，与会代表在企校合作论坛上讨论激烈。企业和高校从各自的角度阐述合作的必要性和目前遇到的困境，都希望解放思想、打破现状，进而获得有效的双赢局面。初步达成成立PVD校企联盟的意见。

与会代表均认为这是一个非常好的会议，由于主题明确，人数控制，因此讨论充分。更关键的是参会代表均为高校或研究所课题组长和企业老总，问题切中要害，所提建议更趋于可操作层面，为PVD中小企业健康发展提供思路。该次会议有力促进了真空镀膜理论研究和工程应用的创新发展，推动高校、研究所和企业在真空镀膜领域的紧密合作与协同进步。

第四届高离化磁控多弧技术研讨会暨PVD企校合作高层论坛会议现场

何鹏教授致辞

田修波教授致辞

巩春志讲师做特邀报告

第四届高离化磁控多弧技术研讨会暨PVD企校合作高层论坛代表合影