第四届高离化磁控多弧技术研讨会暨PVD企校合作高层论坛成功召开
由哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室和中国农业机械化科学研究院共同主办的第四届高离化磁控多弧技术研讨会暨PVD企校合作高层论坛于2016年12月11-13日在哈尔滨举行。哈尔滨工业大学田修波教授和中国农机院汪瑞军教授担任会议主席。会议涉及“高密度等离子体是真空镀膜的未来”、“高端PVD企校深度交流、合力共赢”两个大主题,设有6个大会特邀报告、13个分会报告和2场校企高层论坛。全国从事真空镀膜技术的高校专家和国内外企业高层等50多人参加了本次会议。清华大学邵天敏教授、宁波材料所的汪爱英教授等多名教授以及深圳三海的战总、广州今泰梁总,德国PVT路总、重庆新恒基的赵总、沈阳科仪的赵部长等十几位企业老总。涉及到国外许多PVD大公司的先进设备,如Balzers,Hauzer,PVT,Nachi,SWRI,Gencoa等。会议主席田修波教授介绍了本次会议的组织筹备情况、材料学院副院长何鹏教授代表主办单位发表讲话,期望中国真空镀膜的理论研究和工程应用以及企校合作不断取得新进展。报告主题鲜明,主要讨论了高密度等离子体在真空镀膜中的应用,包括空心阴极、磁场增强、电场增强、高电流增强等一系列方法。
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